第二天,沐陽回到公司。

晶片設計軟體EDA已經做出來了,可以開始設計晶片了。星海集團的第一款晶片命名為「星辰01」,在三月份時,沐陽就定下來了。

他也沒有設計過晶片,上手第一款晶片就是世界頂級晶片,說到底還是開掛。

就算開掛,沒有經驗,設計難度非常大。

正常來說,一款晶片從設計到量產,至少要24到36個月,如果中間流程有問題,時間甚至還要更長,而流片後還需1到2年的客戶測試、適配以及小批次採購後,才有可能實現跳躍式的增長。

像華威公司,技術成熟,又趕時間,一款晶片的設計週期就短一些。

而像沐陽這種掛比,直接照抄作業,耐用還使用人腦轉換儀輸出,光畫圖速度就比常規畫圖就要快了數倍。

晶片設計可以分為兩部分,晶片前端設計和晶片後端設計。

前端設計也就是從輸入需求到輸出網表的過程:主要分為以下五個步驟:

1、RTL設計(即選擇選擇TSMC還是SMIC,還有晶片工藝,星辰01採用的是7n藝)

2、驗證;

3、靜態時序分析;

4、覆蓋率;

5、ASIC邏輯綜合。

而後端設計,也就是從輸入網表到輸出GDSII檔案的過程:主要分為以下六個步驟:

1、邏輯綜合;2、形式驗證;3、物理實現(佈局規劃、佈線);

4、時鐘樹綜合—CTS;5、寄生引數提取;6、版圖物理驗證。

沐陽已經把架構定了下來,開始RTL設計。這一部分,他採用的是C語言。

【in(

{printf"HelloXHStars""星辰01」......】

完全是照抄,除了修改一些名稱。

如果照抄速度為每分鐘150字,或500個字母,那麼,使用人腦轉換儀,每分鐘輸入速度可以達到2500字母以上。

晶片設計是個漫長的過程,等晶片設計完成後,就可以進行下一步:

晶圓+掩膜

沐陽估計,要完成這個星辰01的晶片設計,哪怕開掛,也得一個月時間吧。

不過,他也不急,慢慢來吧。

目前,EBL光刻機樣機還沒出來呢。時光如逝,

一個月後,

沐陽終於把星辰01的晶片設計搞完了,時間也來到了6月