第452章：光刻機(第1/4頁)
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想要進入研究院的車間。
那複雜程度不亞於西天取經。
防護服得穿上。
然後風吹，將身上的塵埃都吹掉。
在經過紫外線照射等等環節。
從準備到進入，差不多要花上一個多小時。
沒辦法，光刻機對於室內清潔度要求實在是太高了。
光刻機說白了就是透過一系列的光源能量、形態約束，將光束投射到畫有電路圖的掩膜。
再經過光學補償，將電路圖成比例縮小投射到矽晶片，最後透過化學方法顯影，得到刻在矽晶片上的電路圖。
如此，光刻機在工作中最重要的當然是光了。
光在哪裡傳播呢？自然是空氣。
這也就是為什麼光刻機的工作環境要求非常高的潔淨度。
哪怕是一點灰塵，都能將生產出來的晶片直接報廢。
現在91年，光刻機的精密度還沒有那麼高。
這臺從阿斯麥過來的機器，還遠遠沒有達到後世的7奈米，甚至5奈米。
所以，對車間的要求在當下看起來是非常高，但自己人還是能搞一搞。
等到後世就壞菜了。
光刻機的精密度提高，對環境的要求更加苛刻和變態。
在國際上通用標準來說，手術室的要求的環境是ISO5級。
這也是常人能接觸到最乾淨的環境了。
但是，晶片生產因為特別精細。
極其微小的雜質都會影響產品的質量。
所以，在後世，生產晶片的車間竟然要求ISO1級或者ISO2級的最高水平！
也就是每立方米的空氣中，超過0.1UM大小的雜質，不能超過100粒。
這是什麼概念？
打個比方說：如果西湖裡面裝滿純淨水，你往裡面撒一把鹽，它就不合格了！
很是恐怖的要求！
簡直讓人無法想象，這麼高要求，你靠人工打掃肯定是不行的。
人類每分鐘會掉900多塊死皮。
450個以上的細菌。
滴一滴汗，就會報廢一批晶片！
注意是一批！而不是一個！