第798章 130奈米SW2002(第3/3頁)
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韓松林知道這個訊息的時候，一點都不驚訝。
也不急！
都經歷過在半導體領域被一直壓制的情況，韓松林心裡面對此也有準備的。
再者說了，現在的申城微電發展得很好。
和國外比起來，申城微電的光刻機在製程上面的確要差了不少，可差的也不多。
也並不是說就沒有機會超越。
比如說申城微電早就已經啟動了euv光刻機的研製。
研究euv光刻機難度極其的大。
之前的光刻機是用的光源是深紫外光，現在申城微電實現量產的130奈米光刻機依舊使用的深紫外光。
可euv光刻機得要用極紫外光。
而極紫外光刻機早在八十年底的時候就被提出，1999年的時候asml公司開始進行研發，計劃在2004年的時候推出產品。
只不過到2010年的時候才做出原型機，到了2016年的時候才實現向下遊客戶供貨，比預期之中整整的晚了十二年時間。
韓松林對光刻機瞭解不多，可也是知道euv光刻機的，能夠將晶片製程給做到7奈米，甚至5奈米，3奈米，就只有euv光刻機能夠做到。
&nl公司能夠在未來獨霸全球，佔據全球光刻機市場百分之八十的市場，就因為人家在技術路線的選擇上面走對了。
韓松林知道，光刻機有兩樣東西很重要：光源和光學透鏡。
為此在星辰院專門的成立了光源研究所和光學研究所。
光學鏡片這塊，華國的確要差了些。
全球在光學透鏡技術這塊，最好的要數漢斯國和島國。
漢斯國的蔡司和萊卡，島國的尼康和奧林巴斯。
這四家公司是最頂級的光學企業。
“老闆，這就是我們實現量產的sw2002光刻機！”
這光刻機在2002年的時候就造出了原型機，經過一年多時間的研發之後，才是實現量產。
速度上面來說，已經算不錯了。
對於研發人員的努力，韓松林從來都不會懷疑，華國的研發人員在全球範圍內，都屬於最苦逼的。
工資低，工作時間長！
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