第八章，國際半導體技術發展藍圖(第2/3頁)

金去開發一些無法融入全球産 業鏈的産品。

“半導體工業正處於一個關鍵時刻:全世界對更高效能的晶片趨之若鶩，對晶片技術的未來發展抱有極大的期待。”

“基於全世界半導體業界以及半導體的應用客戶的共同期待，sia經過兩年的諮詢、醞釀、討論，在今天的本次會議上，國際半導體技術發展藍圖終於可以正式發布了。”

連。

“國際半導體技術發展藍圖”的推出，是基於近年國際國內半導體行業的供應商、生産裝置、耗材、工具正在飛速國際化，因此sia需 要個清晰的路線圖來規劃和控制技術發展、規範市場、理順産業

由國內半導體産業專家組成的工作小組擬定的這份發展藍圖，首要目的是讓國內相關産業能更有成本效益地健全發展，其次也是讓sia的會員形成合力。

在發展藍圖中列出了16個研究方向未來+五年的路線圖:系統驅動程式設計;前端工藝;測試裝置;流程整合、裝置和結構;射頻和模擬混合訊號技術;微機電系統;光刻; ic互連，... 最後是開

放式的“新興基本技術和”新興裝置研究”。

對這16個方向的描述，並不一定都參照未來檔案中的方向，因為有寫技術路線現在各國的半導體科研機構還普遍沒有想到，所以就只能列入“1980年大家都覺得是正確的方向”。

蔣築英: ”1979年，中國的半導體工藝節點進入了1.5微米時代。在未來十五年我們可以期待的路線是:”

“1981年，工藝節點將進入1微米水準。眾所周知1 .5微米和1微米之間只隔著一層紗。 ”

“1984年，0.8微米; 1986年，0.6微米; 1988年， 0.5微米。1990年， 0.35微米。 到1995年， 我們將能夠生産工藝節點0.10奈米的晶片。”

...”臺下被半導體1995年的路線圖驚呆了。

現在市面上的高階半導體晶片才1.5微米，15年後0.13微米， 同樣的面積整合的電晶體數是現在的100多倍

“蔣總，我們也研究過晶片的一部分工藝，當工藝節點到半微米的時候，很多技術已經失效了，沒法往矽片上刻蝕出準確的形狀。”

“中國已經把技術推進到130奈米了嗎”

蔣築英搖搖頭:“並不。sia提出的是發展藍圖，而並非中國已經儲備了130奈米晶片技術。提出發展藍圖的意義就是，讓所有的企業有一個前進的方向。”

做出來。

其實這些技術不能說有，但也不能說沒有，關鍵技術都模模糊糊知道個大概，而且蔣築英很清楚這些技術要研發出來的關鍵點、難點在哪。只要時候到了，國內的幾大電子集團一定能把這些東西

這次sia年會有兩個韓國廠商參會。兩個廠商來的都是本集團的一號掌門人:三星李秉喆，現代鄭周永。

鄭周永費力地從後排擠到前面: ”蔣主席，韓國現在成立了國家半導體研究院，三星從貴國引進64k ra生産線之後，也組建了自己的半導體研究院，那麼以您之見，韓國在半導體方面的研究應該著

眼於發展藍圖的哪些方向呢

蔣築英笑道:“鄭總裁，我甚至都不對中國的半導體企業強制要求他們走哪些方向的研究，南朝鮮的企業那麼就更自由了，不過，半導體行業的研發也有自己內在的規律， 是量力而行;二是專利不

能無限擴張，比如說日本現在就有後一個傾向。

“研發出來了一兩個關鍵專利，就用專利作為武器把一個行業或者一個行業的分支封閉起來，最後只會引起行業內的對抗。”

蔣築英點名批評日本!臺下又是一陣嗡嗡嗡。

聽到蔣築英這兩句話，鄭周永和身後剛剛擠到位的李秉喆交換了一下眼神。

難...韓國的半導體也是有出頭的機會的

當然這個出頭只是說能和日本並駕齊驅甚至區域性超過。

...

“我明白了!我明白了中國治日之法!”