第九十八章 悲觀與樂觀（求首訂！）(第1/2頁)
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young說上興頭了，他有點停不下來，想把他對半導體的理解和國產半導體可替代的發展跟程鋼好好聊聊：
“接下來回到我們的主題，14 &n光刻機挑戰是什麼？”
“先談finfet，finfet是加州大學伯克利分校著名教授，胡正明教授最先提出的3d &nosfet器件結構。”
“3d &nosfet透過立體的結構實現了超越前代平面電晶體的效能。11年 intel率先將其商業化。但到了14 &n製程後， finfet變得不再像以往可靠。”
“首先是逃不掉的量子效應，電晶體的電流很難提高了。甚至對於一些材料，電流會變低。對於晶片而言，電流意味著速度。”
“然後是漏電流，漏電流直接牽扯到功耗。在這麼小的節點，finfet也很難控制漏電。”
“最後是成本，按照摩爾定律，隨著節點的減少，單個電晶體成本應該減少。”
&n製程，繁雜的光刻流程，導致單個電晶體成本反而可能會上升。”
&n製程，但是股價卻遲遲上不去是為什麼？”
&n製程太難了，中芯國際的良品率不夠高，算是半完成。”
程鋼點頭道：“難怪中芯國際不再單獨披露14nm和28nm工藝的營收佔比情況，反而不斷擴產28nm。”
young對程鋼的敏銳很滿意：“即便在宣稱14nm工藝量產後的這兩年裡，中芯國際還是把14nm和28nm的營收算在一起，現在甚至直接不公佈營收佔比情況了。”
（扒了中芯國際從2020年和2021年的財報，其營收最大來源是55/65nm製程，而14/28nm營收佔比2020年一季度是7.8%，到了2021年一季度佔比不增反降變成了6.9%）
&n不如預期，而不是說中芯國際沒搞出14nm工藝。
young繼續道：“晶片代工的難度比光刻機要低的。”
&n製程都如此困難，光刻機14nm只會更加困難。”
“致命問題代工工藝會遇上，光刻機也逃不掉。”
&nask與光刻才能完成製造流程。”
“所以光刻是最重要的部分。”
“於是一個非常顯而易見的問題發生了，如何保證這麼多步光刻能刻在矽片同樣的位置。”
&n製程的時候，線寬只有幾個奈米。”
&nask有一點偏差，整個晶片就報廢了。”
&nask奈米級的位置，這花的時間遠沒有外界想象的樂觀。”
“即便國產光刻機生產出來，良品率也需要時間才能提上去。”
“現在光刻機得保證每小時125片的產率。不然半導體廠商要虧本。”
“這裡面我們需要補的課實在太多了。”young語氣痛心疾首。
young雖然常用英文名字，但是他確實是華國人，申海交大的本科。
程鋼嘆氣：“只能走一步看一步了，我們暫時也只需要28nm製程，應該能滿足我們的需要。”
&n既然能生產，那價格高一些也無所謂。”
young同樣感慨不已：“在半導體領域要追趕的東西太多，不是一時半會能趕上的。”