第414章 你到底為什麼回國？(第1/2頁)

徐佑知道，黃思白最近一直在魔都，想要來薊京大學一趟，其實還是挺不容易的。

“最近還好，也正好要回總公司一趟，所以就過來找您了。”黃思白笑著說道。

聽黃思白這麼說，徐佑總算沒有什麼心理負擔了。

簡單的詢問了幾句後，黃思白開始詳細的給徐佑講解起了，自己最近的這個成果。

“徐教授，最近我做的研究，是有關EUV光刻機的三維掩模成像技術。”

“三維掩模成型技術？”徐佑問道。

“是的，徐教授。三維掩模成像技術，對EUV光刻成像質量有很大的影響。三維掩模成像模型，是進行EUV光刻成像模擬的基礎。”

簡單的說，光刻機的工作原理，與照相機有一些類似。

光刻機發出的光，透過具有圖形的光罩，能夠對塗有光刻膠的薄片曝光。

光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上的圖形影印到薄片上。

這樣一來，薄片就具有電子線路圖的作用了。

只是，與照相機的二維成像不同，光刻機光刻出的電子元件和電路圖，是三維的成像。

這就是黃思白這項成果的重要意義。

聽著黃思白的講解，徐佑越發的興奮起來。

“黃工，你帶相關的資料過來了嗎？可不可以讓我看一下更詳細的內容？”

“嗯，徐教授，我帶了，等我開一下電腦。”

黃思白也是第一次和徐佑進行學術上的交流，顯得有些緊張和激動。

黃思白沒有想到，徐佑對於這些不屬於他領域上的學術問題，竟然會問得這麼仔細。

徐佑的專業程度，甚至並不亞於EUV光刻機專案組的那些科研人員。

“黃工，這裡掩模衍射譜的計算，是透過傅立葉變換得到的吧？”徐佑指著資料中的一處問道。

“是的，徐教授，當掩模厚度較小，掩模圖形尺寸較大時，掩模衍射譜可以採用薄掩模模型計算。透過傅立葉變換，得到掩模Kirchhoff遠場衍射的結果……”

“黃工，這裡是不是用到了厄米對稱性的性質？”

“沒錯。為了進一步提高Hopkins成像模型的計算效率，可以根據矩陣的厄米對稱性對其進行奇異值分解，並將這個公式截斷……”

為了解答徐佑提出的一個個問題，黃思白已經累得滿頭大汗了。

這種勞累感，並不是因為體力的消耗，而是腦力的大量消耗。

而徐佑卻非常享受這種學習的過程，臉上滿是輕鬆和喜悅的神色。

現在的徐佑，根本不需要進入到深度學習狀態，就可以輕鬆的解決各種科研問題。

深度學習狀態，對於徐佑來說，只是相當於一個加速器而已。

這時，黃思白擦了擦額頭上的汗水，嘗試著問道：

“徐教授，我可以瞭解一些龍芯G1的資料嗎？這對我們的光刻機研究，會有一定幫助的。”

徐佑聞言一愣道：“龍芯G1？這款晶片並沒有使用到EUV光刻機的技術啊。”